{"id":36853,"date":"2024-09-20T10:00:00","date_gmt":"2024-09-20T16:00:00","guid":{"rendered":"https:\/\/www.elchapucero.com\/?p=36853"},"modified":"2024-09-20T11:10:07","modified_gmt":"2024-09-20T17:10:07","slug":"china-alcanza-un-gran-progreso-en-la-fabricacion-de-chips","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.elchapucero.com\/portal\/noticias\/internacional\/china-alcanza-un-gran-progreso-en-la-fabricacion-de-chips\/","title":{"rendered":"China alcanza un gran progreso en la fabricaci\u00f3n de chips"},"content":{"rendered":"\n<p class=\"wp-block-paragraph\">La compa\u00f1\u00eda china Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) mostr\u00f3 un significativo avance en el campo de la fabricaci\u00f3n de chips, al presentar su solicitud de patente para un equipo de litograf\u00eda que es esencial para la industria,\u00a0inform\u00f3\u00a0South China Morning Post.<\/p>\n\n\n\n<p class=\"wp-block-paragraph\">Esta tecnolog\u00eda no solo representa un paso significativo hacia la autosuficiencia de China en este sector, sino que tambi\u00e9n es una muestra de&nbsp;c\u00f3mo Pek\u00edn est\u00e1 sorteando&nbsp;las sanciones estadounidenses destinadas a obstaculizar sus&nbsp;objetivos.<\/p>\n\n\n\n<p class=\"wp-block-paragraph\">De acuerdo con el medio,&nbsp;<strong>la patente&nbsp;para \u00abgeneradores de radiaci\u00f3n ultravioleta extrema (EUV) y equipos de litograf\u00eda\u00bb<\/strong>&nbsp;fue solicitada en marzo de 2023,&nbsp;aunque esto solo se difundi\u00f3 la semana pasada. El documento est\u00e1 todav\u00eda&nbsp;en revisi\u00f3n por parte de la Administraci\u00f3n Nacional de Propiedad Intelectual de China.<\/p>\n\n\n\n<h3 class=\"wp-block-heading\">\u00bfFin del monopolio?<\/h3>\n\n\n\n<p class=\"wp-block-paragraph\">La patente es&nbsp;asimismo expresi\u00f3n de&nbsp;los progresos de SMEE en la litograf\u00eda ultravioleta extrema (EUV), un campo que se considera el punto d\u00e9bil de este&nbsp;sector en China,&nbsp;dado que los semiconductores son necesarios para&nbsp;el desarrollo de tecnolog\u00edas incipientes, como la inteligencia artificial, que demanda&nbsp;a ese respecto productos cada vez m\u00e1s avanzados.<\/p>\n\n\n\n<p class=\"wp-block-paragraph\">\u00abLos avanzados esc\u00e1neres de ultravioleta extrema se consideran&nbsp;<strong>necesarios para la producci\u00f3n masiva de semiconductores<\/strong>&nbsp;de menos de 7 nan\u00f3metros, ya que proporcionan mejores rendimientos de producci\u00f3n,&nbsp;en t\u00e9rminos&nbsp;del porcentaje de elementos no defectuosos elaborados en&nbsp;su&nbsp;fabricaci\u00f3n\u00bb, se informa.<\/p>\n\n\n\n<p class=\"wp-block-paragraph\">Por su parte, la empresa ASML, con sede en los Pa\u00edses Bajos, tiene&nbsp;actualmente el monopolio en la fabricaci\u00f3n en masa&nbsp;de equipos de litograf\u00eda EUV, pero la exportaci\u00f3n de sus productos a China est\u00e1 prohibida por sanciones impuestas por EE.UU. en 2019.<\/p>\n\n\n\n<p class=\"wp-block-paragraph\">As\u00ed, con la&nbsp;aparici\u00f3n de esta tecnolog\u00eda propia en&nbsp;China, la distancia que separa a&nbsp;esa naci\u00f3n asi\u00e1tica de Estados Unidos y otros pa\u00edses l\u00edderes en semiconductores se est\u00e1 reduciendo, lo que probablemente deber\u00eda preocupar a&nbsp;las autoridades de cada uno de ellos, que llevan a\u00f1os tratando de evitarlo.&nbsp;<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>La compa\u00f1\u00eda china Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) mostr\u00f3 un significativo avance en el campo de la fabricaci\u00f3n de chips, al presentar su solicitud de patente para un equipo de litograf\u00eda que es esencial para la industria,\u00a0inform\u00f3\u00a0South China Morning Post. 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